外延/退火石墨托盘

产品优势

• 自有原材料，品质优良

• 专有的涂层和净化技术

•  全谱加工操作和全面的质量控制措施

技术参数

华熔科技 外延/退火石墨托盘的数据表

应用	石墨纯度	宽度	热膨胀系数	每月产能	备注
硅外延	≤1ppm	±0.005mm	4.2	500套	根据客户图纸制造
LED外延	≤1ppm	±0.005mm	4.0	1500套

产品特点

•  高纯度： 采用超高纯度石墨设计，确保尽可能小的污染和极佳的晶体生长条件。

•  热稳定性： 表现出卓越的热稳定性，在对于晶体生长过程至关重要的高温下保持结构完整性。

•  均匀表面： 具有光滑均匀的表面，有利于一致的晶体成核和生长。

技术优势

• 卓越的导电性： 高导电性和导热性支持高效的能量转移，提高晶体生长的整体效率。

• 低膨胀系数： 低热膨胀系数可最大限度地减少温度波动期间的变形，确保精确的尺寸控制。

•  耐用性： 卓越的机械强度和耐磨性，提供长期可靠性并减少频繁更换基材的需要。

应用领域

• 半导体制造： 用于硅和砷化镓等半导体材料的外延生长，这对于生产高性能电子器件至关重要。

• 薄膜沉积： 支持薄膜沉积工艺，为均匀材料沉积提供稳定的平台。

• 退火工艺： 非常适合退火应用，材料需要在受控环境中加热和冷却以获得所需的性能。

华熔 的石墨支撑托盘旨在满足外延和退火工艺的严格要求，为半导体和薄膜制造提供可靠的高性能解决方案。