产品优势
• 自有原材料，品质优良
• 专有的涂层和净化技术
• 全谱加工操作和全面的质量控制措施
技术参数
华熔科技用于SiC晶体生长的特种石墨数据表
晶体类型 | 石墨纯度 | 宽度 | 热膨胀系数 | 每月产能 | 备注 |
硅 | ≤1ppm | ±0.005mm | 4.4 | 800套 | 根据客户图纸制造 |
碳化硅 | ≤1ppm | ±0.005mm | 4.0 | 2000套 |
氧化镓 | ≤1ppm | ±0.005mm | 4.0 | 1000套 |
氮化镓 | ≤1ppm | ±0.005mm | 4.2 | 1000套 |
产品特点
• 高纯度： 采用超高纯度石墨设计，确保尽可能小的污染和好的晶体生长条件。
• 热稳定性： 表现出卓越的热稳定性，在对于晶体生长过程至关重要的高温下保持结构完整性。
• 均匀表面： 具有光滑均匀的表面，有利于一致的晶体成核和生长。
技术优势
• 卓越的导电性： 高导电性和导热性支持高效的能量转移，提高晶体生长的整体效率。
• 低膨胀系数： 低热膨胀系数可尽可能地减少温度波动期间的变形，确保精确的尺寸控制。
• 耐用性： 卓越的机械强度和耐磨性，提供长期可靠性并减少频繁更换基材的需要。
应用领域
• 半导体工业： 用于生长高品质半导体晶体，例如硅和砷化镓，这对于制造先进电子设备至关重要。
• 光电： 通过提供稳定且传导性的生长平台，支持光电材料（包括 LED 和激光二极管）的生产。
• 研究与开发： 非常适合实验室规模的晶体生长实验，使研究人员能够以高精度和可重复性探索新材料和生长技术。
华熔科技用于SiC晶体生长的特种石累旨在满足现代材料科学的严格要求，为各种晶体生长应用提供可靠的高性能解决方案。
